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光学近接効果補正

optical proximity correction(OPC)
IC の加工寸法が微細化し露光波長に近づくと、マスクパターンの形状や大きさ、隣接パターンの影響によって、マスクパターンを忠実にウェハ上に露光できなくなる。この現象を光学近接効果(OPE:Optical Proximity Effect)という。そこで、あらかじめ変形を見越して、パターンの形状に応じて、パターンのエッジに段差(ジョグ)を付けたり、別のパターンを加えたり(ハンマヘッドやアシストバー、セリフ)、またパターン幅を変えるなどの補正を行う。これをOPCという。