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リソグラフィ

lithography
マスクに描かれた回路パターンをウェハ上に露光転写する工程または技術。ウェハにレジスト(感光性樹脂)を塗布し、これにマスクのパターンを焼き付け、現像する。光の当たったところとそうでないところで、現像後にレジストが残る/残らないに分かれ、レジストの凹凸パターンとなる。この仕組みからリソグラフィ(石版)と呼ばれる。このレジストパターンを基に、ウェハに微細な加工を加える。これには、エッチング(削り取る)、デポジション(別の材料を堆積する)、ドーピング(適当な不純物をしみ込ませる)がある。紫外線を使う光露光(フォトリソグラフィ)、電子線露光、X 線露光などがある。
 → フォトエッチング