用語集

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エキシマレーザ

excimer laser
IC のリソグラフィ工程(露光工程)で用いるレーザ光源のこと。KrF(フッ化クリプトンエキシマレーザ、波長248nm)、ArF(フッ化アルゴンエキシマレーザ、波長193nm)、F2(フッ素エキシマレーザ、波長157nm)などがある。KrFはハーフピッチ0.25 ~ 0.13μm の量産に、またArFは同0.13 ~ 0.07μm 用として採用されている。